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半导体复合薄膜沉积系统(设备编号:20146444)

当前状态: 正常
型号SFD060CB01
仪器认证
规格外延室尺寸600*450mm筒形结构预处理室尺寸300*900,极限真空8*10-9次方Pa,系统漏率小于10-8次方Pa.L/s
制造厂商中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
出厂日期
所属单位材料物理实验室
放置地点望江水电大楼B213(望江校区西区水电大楼B213室)
类别工艺实验设备>>电子工艺实验设备>>半导体集成电路工艺实验设备
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学科领域
其他
主要功能 无机功能薄膜沉积
主要技术指标 生长室尺寸600*450mm筒形结构预处理室尺寸300*900mm,极限真空8*10-8Pa,系统漏率小于10-8Pa.L/s
备 注